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Patentfield「CEATEC 2020 ONLINE」出展のお知らせ

Patentfield株式会社

    patentfield

    こんにちは、関西スタートアップニュース編集チームです。

    Patentfield株式会社は、2020年10月20日から23日まで開催される「CEATEC 2020 ONLINE」に出展し、『AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfield』について紹介します。

    ■ポイント

    • Patentfield株式会社は「CEATEC 2020 ONLINE」に出展

    • イベントでは自社サービス『AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfield』についての紹介を行う

    • 「CEATEC 2020 ONLINE」は2020年10月20日から23日まで開催、事前登録は必要だが入場料は無料

    イベントでは、Patentfieldの担当者が質問やお問い合わせについて対応していただけるそうです。導入を検討されている方はぜひイベントに参加してみてはどうでしょうか?

    ====以下、PR TIMESから転載====

    展示エリア

    Co-Creation PARK(スタートアップ&ユニバーシティゾーン)

     出展内容

    『AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfield』

     Patentfieldについて

    Patentfieldは、4つの機能(プロフェッショナル検索・データ可視化・AI類似検索・AI分類予測)を組み合わせて、ワンストップで総合的な検索・分析ができる『AI特許総合検索・分析プラットフォーム』です。

    ものづくりや製品開発の現場における知的財産に関わる活動をサポートし、これまで高度な知識が必要とされてきた特許/意匠調査・分析業務を、初めての方でも使いやすく、かつリーズナブルにご利用いただけるサービスです。

    これまで膨大な時間を費やしてた特許調査・分析も、AIによるサポート機能により、調査・分析に関わる業務を最大80%の効率化を図ることができます。

    2020年10月1日にリリースした「日本語横断検索機能」では、日本語による海外特許の検索を実現し、分析機能やAI機能を利用することにより、海外の技術動向の分析や、海外特許の効率的な調査が可能となります。

    「CEATEC 2020 ONLINE」では、日本語横断検索機能を含めたPatentfieldのサービス内容について、映像コンテンツを中心にご紹介し、来場者の質問やお問合せについても弊社担当者がオンラインでリアルタイムに対応いたします。

    Patentfieldを2週間無料でご利用いただける無料トライアルアカウント発行も受付しておりますので、ぜひPatentfieldブースをご覧ください。

    【CEATEC 2020 ONLINE概要】

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    PRTIMESで本文を見る

    関西スタートアップニュース編集部

    ライター

    関西スタートアップニュース編集部

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